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10月15日，“中國(guó)光谷”經(jīng)過(guò)微X公眾號(hào)發(fā)布信息叫作，武漢太紫微光電科技有限機(jī)構(gòu)（以下簡(jiǎn)叫作“太紫微機(jī)構(gòu)”）推出的T150 A光刻膠制品，已經(jīng)過(guò)半導(dǎo)體工藝量產(chǎn)驗(yàn)證，實(shí)現(xiàn)配方全自主設(shè)計(jì)，有望開創(chuàng)國(guó)內(nèi)半導(dǎo)體光刻制造新局面。
據(jù)介紹，太紫微機(jī)構(gòu)的這款光刻膠制品對(duì)標(biāo)國(guó)際頭部企業(yè)主流KrF光刻膠系列。相較于被業(yè)內(nèi)叫作之為“妖膠”的國(guó)外同系列制品UV1610，T150 A在光刻工藝中表現(xiàn)出的極限分辨率達(dá)到120nm，且工藝寬容度更大，穩(wěn)定性更高，堅(jiān)膜后烘留膜率優(yōu)秀，其對(duì)后道刻蝕工藝表現(xiàn)更為友好，經(jīng)過(guò)驗(yàn)證發(fā)掘T150 A中密集圖形經(jīng)過(guò)刻蝕，下層介質(zhì)的側(cè)壁垂直度表現(xiàn)優(yōu)異。
眾所周知，光刻膠是半導(dǎo)體芯片制造過(guò)程中所必須的關(guān)鍵材料。因?yàn)?/span>日前光刻機(jī)揭發(fā)光源一共有六種，分別是紫外全譜（300～450nm）、 G 線（436nm）、 I 線（365nm）、深紫外（DUV，包含 248nm 和 193nm）和極紫外（EUV），相對(duì)應(yīng)于各揭發(fā)波長(zhǎng)的光刻膠亦應(yīng)運(yùn)而生，對(duì)應(yīng)分別為，g 線光刻膠、i 線光刻膠、KrF光刻膠、 ArF光刻膠、EUV光刻膠。
從市場(chǎng)占有率來(lái)看，全世界光刻膠市場(chǎng)重點(diǎn)被日本和美國(guó)廠商占據(jù)。按照 TOK 和 Fujifilm 2020年的數(shù)據(jù)表示：
g/i ：東京應(yīng)化占比 25.2%，陶氏杜邦占比 19.1%，住友化學(xué)占比 15.7%；
KrF：東京應(yīng)化占比 31.4%，信越化學(xué)占比 21.9%，合成橡膠占比 20.9%，陶氏杜邦占比 10.9%；
ArF：合成橡膠（JSR）占比24.9%，信越化學(xué)占比 21.8%，住友化學(xué)占比 16.8%，東京應(yīng)化占比15.8%；
EUV：東京應(yīng)化占比51.8%，另一合成橡膠（JSR）亦有不小的份額。
雖然近年來(lái)，隨著國(guó)產(chǎn)半導(dǎo)體制造業(yè)務(wù)發(fā)展，國(guó)產(chǎn)光刻膠廠商亦取得了有些突破，但是在中高端光刻膠市場(chǎng)仍是相對(duì)較弱。詳細(xì)來(lái)講，低端的中g(shù)線/i線光刻膠自給率約為20%，KrF光刻膠自給率不足5%，而高端的ArF光刻膠亦是近兩年才有所突破，例如彤程新材、南大光電的ArF光刻膠都已有對(duì)外供貨。至于更高端的EUV光刻膠，因?yàn)?/span>美國(guó)的阻撓，國(guó)內(nèi)日前沒(méi)法進(jìn)口EUV光刻機(jī)，因此呢國(guó)產(chǎn)EUV光刻膠的研發(fā)自然亦無(wú)從談起。
資料表示，太紫微機(jī)構(gòu)成立于2024年5月，由華中科技大學(xué)武漢光電國(guó)家科研中心團(tuán)隊(duì)創(chuàng)立。團(tuán)隊(duì)安身于關(guān)鍵光刻膠底層技術(shù)開發(fā)，在電子化學(xué)品行業(yè)深耕二十余載。
企業(yè)負(fù)責(zé)人、英國(guó)皇家化學(xué)會(huì)會(huì)員、華中科技大學(xué)教授朱明強(qiáng)暗示：“以原材料的研發(fā)為起點(diǎn)，最后得到擁有自主知識(shí)產(chǎn)權(quán)的配方技術(shù)，這只是個(gè)起始，咱們團(tuán)隊(duì)還會(huì)發(fā)展一系列應(yīng)用于區(qū)別場(chǎng)景下的KrF與ArF光刻膠，為國(guó)內(nèi)關(guān)聯(lián)產(chǎn)業(yè)帶來(lái)更加多驚喜?！?/p>
△太紫微核心開發(fā)團(tuán)隊(duì)成員（前排左一為朱明強(qiáng)教授）
太紫微機(jī)構(gòu)致力于半導(dǎo)體專用高端電子化學(xué)品材料的研發(fā)，并以新技術(shù)路線為半導(dǎo)體制造開辟新型先進(jìn)光刻制造技術(shù)，同期為材料的分析與驗(yàn)證供給最全面的手段。
“無(wú)論是從國(guó)內(nèi)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)崛起的背景來(lái)看，還是從摩爾定律演變的規(guī)律展望將來(lái)，‘百家爭(zhēng)鳴’的局面已形成，光刻行業(yè)還會(huì)有非常多新技術(shù)、新企業(yè)破繭成蝶，但持有科技創(chuàng)新的力量是存活下去的必要前提。”太紫微外聘專家顧問(wèn)暗示。
編輯：芯智訊-浪客劍
