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近期，光谷企業(yè)在半導體專用光刻膠行業(yè)實現(xiàn)重大突破：武漢太紫微光電科技有限機構（以下簡叫作“太紫微機構”）推出的T150 A光刻膠制品，已經過半導體工藝量產驗證，實現(xiàn)配方全自主設計，有望開創(chuàng)國內半導體光刻制造新局面。
該制品對標國際頭部企業(yè)主流KrF光刻膠系列。相較于被業(yè)內叫作之為“妖膠”的國外同系列制品UV1610，T150 A在光刻工藝中表現(xiàn)出的極限分辨率達到120nm，且工藝寬容度更大，穩(wěn)定性更高，堅膜后烘留膜率優(yōu)秀，其對后道刻蝕工藝表現(xiàn)更為友好，經過驗證發(fā)掘T150 A中密集圖形經過刻蝕，下層介質的側壁垂直度表現(xiàn)優(yōu)異。
太紫微機構成立于2024年5月，由華中科技大學武漢光電國家科研中心團隊創(chuàng)立。團隊安身于關鍵光刻膠底層技術開發(fā)，在電子化學品行業(yè)深耕二十余載。
企業(yè)負責人、英國皇家化學會會員、華中科技大學教授朱明強暗示：“以原材料的研發(fā)為起點，最后得到擁有自主知識產權的配方技術，這只是個起始，咱們團隊還會發(fā)展一系列應用于區(qū)別場景下的KrF與ArF光刻膠，為國內關聯(lián)產業(yè)帶來更加多驚喜?！?/span>
太紫微核心開發(fā)團隊成員（前排左一為朱明強教授）
太紫微機構致力于半導體專用高端電子化學品材料的研發(fā)，并以新技術路線為半導體制造開辟新型先進光刻制造技術，同期為材料的分析與驗證供給最全面的手段。
“無論是從國內半導體產業(yè)崛起的背景來看，還是從摩爾定律演變的規(guī)律展望將來，‘百家爭鳴’的局面已形成，光刻行業(yè)還會有非常多新技術、新企業(yè)破繭成蝶，但持有科技創(chuàng)新的力量是存活下去的必要前提。”太紫微外聘專家顧問暗示。
